法布里-珀罗(FP-LD)半导体激光器

法布里-珀罗激光器(FP-LD)是最常见、最普通的半导体激光器，它最大的特点是激光器的谐振腔由半导体材料的两个解理面构成。目前光纤通信上采用的FP-LD的制作技术已经相当成熟，普遍采用双异质结多量子阱有源层、载流子与光分别限制的结构。
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    半导体激光器由于边界条件的不同，存在三个方向的模式问题。沿激光器输出方向形成的驻波模式称为纵模，垂直于有源层方向的模式称为垂直横模，平行于有源层并和输出方向垂直的模式称为水平横模。在光通信领域中，至少要求激光器工作在基横模状态。对于FP-LD来说，基横模实现比较容易，主要通过控制激光器有源层的厚度和条宽来实现，常用的结构有掩埋异质结、脊波导等。而纵模控制就有一定的困难，FP-LD利用一对相互平行的反射镜进行纵模选择，通常激光器的长度在数百微米的量级，对应的模式间距为1 nm的量级，而激光器的增益谱宽度达100 nm的量级，多纵模激射的可能性相当大。对于一般的FP-LD，当注入电流在阈值电流附近时，可以观察到多个纵模；进一步加大注入电流，谱峰处的某个波长首先激射，消耗了大部分载流子，压制其它模式的激射，有可能形成单纵模工作；当对FP-LD进行高速调制时，原有的激射模式就会发生变化，出现多模工作。这就决定了FP-LD不能应用于高速光纤通信系统。但是相对其它结构的激光器来说，FP-LD的结构和制作工艺最简单，成本最低，适用于调制速率小于622 Mbit/s的光纤通信系统。目前商用的1.3 ?滋m FP-LD阈值电流在10 mA以下，输出功率在10 mW左右(注入电流为2～3 Ith，Ith为阈值电流)因此在光纤接入网中获得广泛应用。</font></span><span class="px14"><font id="FontSizeSettings4">    目前FP-LD的主要发展趋势在于研发无制冷器件和进一步降低制作成本。传统的FP-LD的谐振腔通过解理实现，在性能<a target="_blank" href="http://info.broadcast.hc360.com/html/cpzt_cs.htm">测试</a>的时候需要对解理过的单个尺寸为数百微米量级的激光器进行操作，生产效率较低。如果能用其他方法形成反射镜面，然后在整个衬底上对单个激光器进行测试，则大大提高生产效率并降低成本。采用等离子体刻蚀的方法可以获得垂直光滑的反射镜面，使得这种激光器和传统的端面解理的FP-LD具有相同的性能，并且可以在同一衬底上将激光器和光探测器集成，从而形成了基于整个衬底的激光器加工工艺路线，有可能大大降低成本。

</font></span><br /><hr /> Orignal From: <a href="http://www.rayscience.com/blog/?p=98" target=_blank>法布里-珀罗(FP-LD)半导体激光器</a><br />